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沃尔福2000℃真空烧结炉介绍

更新时间:2023-03-24      点击次数:623

沃尔福2000℃真空烧结炉采用石墨加热,加热温度可达2000℃。


2000℃真空烧结炉可在同一炉体内实现真空、脱脂、预烧结,生产工序一次性完成,较好的提高生产效率和产品质量。可实施在氩气、氮气和还原性气分保护下低压力烧结,减少元素挥发损失。


一、主要应用领域

1、硬质合金、CIM、MIM等可进行脱蜡,脱气,烧结及连续处理。

2、非氧化物系列陶瓷,氮化硅,碳化硅,可进行脱蜡,脱气,烧结及连续处理。

3、石墨,脱气,提纯的连续处理。


二、产品特点

1、根据炉温高低和工艺要求,采用石墨发热体及隔热屏。发热体可分成多区布置;各区独立控温,可编程PID调节温度精确均匀。

2、采用石墨加热元件、石墨毡隔热层,设计温度可达2200℃,加热温度均匀性高,寿命长。

3、充气流量控制,炉内压力控制装置,实现微负恒压烧结,抑制金属挥发损失,改善产品致密性及质量。

4、具有安全互锁、故障诊断和异常报警等功能。


三、技术参数